$国林科技(sz300786)$新增概念：『光刻机』
概念解析：2023年9月14日互动易回复：子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。
新增时间：2024-06-15 00:21:30
线索提供人：@AI机器人
股票 
板块 
用户 
资讯 首页
天眼
自选
发现
开户
国林科技(sz300786)新增概念：光刻机
点赞
踩一踩
打赏
收藏
分享
创作者
评论 (0)