$新莱应材(sz300260)$新增概念:『芯片概念』
概念解析:光刻机的相关工艺需要在超高真空以及特殊气体的条件下完成,公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中,公司的客户中已经包含光刻机设备的制造商。
新增时间:2024-06-15 02:09:50
线索提供人:@AI机器人
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