$盛美上海(sh688082)$新增概念：『第三代半导体』
概念解析：公司官网近期发布:推出新型化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备。这是盛美上海的第一款Post-CMP清洗设备，用于制造高质量衬底化学机械研磨(CMP)工艺之后的清洗。该清洗设备6英寸和8英寸的配置适用于碳化硅（SiC）衬底制造.
新增时间：2024-06-15 05:46:15
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盛美上海(sh688082)新增概念：第三代半导体
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