$洪田股份(sh603800)$新增概念：『光刻机』
概念解析：根据子公司洪瑞微电子2025年6月23日官微：我们为客户供应的掩模版直写光刻机，是一台波长为405nm，最小线宽线距解析能力为2.5μm，对位精度为±2μm的高精度的激光直写光刻设备，可实现L/S为3μm的掩模版产品的量产光刻，同时提供多重图形涨缩补偿算法，是我司与合作伙伴-中国科学院上海光学精密机械研究所属企业上海镭慎光电团队在微纳激光直写领域做出的重大技术突破，代表了当前可量产化的国产自研直写光刻机的最高等级光学技术水平，帮助客户大幅降低成本，实现了掩模版微纳光刻解决方案的国产替代，可满足先进封装与半导体掩模版领域产品的直写光刻需求。
新增时间：2025-06-25 15:22:58
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洪田股份(sh603800)新增概念：光刻机
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