$广立微(sz301095)$新增概念：『光刻机』
概念解析：根据2025年半年报：公司研发了DE-LPC光刻机套刻控制分析系统，用于监控光刻机、量测机台、工艺配方的健康度，优化光刻机工艺参数, 包括光源、样本选择、找平等参数。以及TOGO recipe 验证，最小化套刻误差的同时，提升稳定性和容错能力、
新增时间：2025-09-12 19:32:56
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广立微(sz301095)新增概念：光刻机
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