江苏省重点实验室学术委员会年度会议圆满召开

4月7日，江苏省柔性光电子与微纳制造重点实验室学术委员会年度会议在苏州苏大维格科技集团股份有限公司顺利召开。重点实验室学术委员会成员、苏州大学和苏大维格领导及重点实验室团队骨干齐聚一堂，总结年度成果、研讨发展规划，共促柔性光电子与微纳制造领域创新发展。 会议由重点实验室主任乔文主持，苏大维格董事长朱志坚和苏州大学副校长张正彪分别作欢迎致辞，并为学术委员会成员颁发聘书。 随后，乔文教授进行了重点实验室年度工作汇报，苏大维格高端光刻装备事业部部长浦东林博士作光刻设备重点介绍。实验室围绕前沿研究和产业需求持续攻关，并突破了大幅面三维计算光刻、卷对卷套准纳米压印光刻等关键技术，在半导体、新型显示、消费电子等领域实现典型示范应用。 会上，专家围绕 “面向人工智能的高通量数字光刻技术与应用前景” 作专题报告，与会人员就实验室未来三年行动计划与融合创新方向开展深入研讨。 以南京大学祝世宁院士为首的学术委员会对苏大维格早期内部自建实验室平台，到获评省级重点实验室后的建设成效与技术突破给予高度评价，肯定了实验室定位清晰、成果扎实，建议进一步加强共建单位协同，深化学术与产业交流，持续聚焦前沿、攻坚关键核心技术，加快高水平科研成果转化，为我国柔性光电子与微纳制造产业高质量发展提供更强支撑。 不喜欢