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目前DRAM存储里的铟镓锌氧化物（IGZO）晶体管制造是否依赖于公司半导体臭氧设备？
尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。详细产品技术信息请查阅子公司国林半导体官方网站（https://www.guolinsemi.com/）或定期报告进行了解。感谢您对的关注。
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