文|王亮 耿正 张大伟
硅电容以半导体工艺重构电容性能边界,为高阶运算打造的新世代供电元件。AI算力重构供电体系,硅电容迎来广阔增长空间。建议关注硅电容产业链。
硅电容用半导体工艺,厚度和性能优势显著。硅电容跳脱传统被动元件用陶瓷烧结的制造方式,利用半导体晶圆制程,直接在硅晶圆上透过光刻、蚀刻等技术刻出来的微型电容。硅电容厚度极薄(可低至0.1毫米以下),且具备极佳的高频与稳压特性,能直接贴合在GPU/CPU旁边,甚至整合进封装基板内,负责为高阶芯片提供极度快速、稳定的瞬间电流,是专为高阶运算打造的新世代供电元件。MLCC与硅电容互补分工,共建AI未来供电标准架构。根据半导体芯闻公众号,MLCC具备成本低、供应链成熟、容量涵盖范围广等优势,是系统级与板端电源稳定的主力元件。以NVIDIA架构为例,从GB200到下一代Rubin世代,因功耗翻倍,单板MLCC用量预估将从约6500颗增至近12000颗。MLCC将持续主导PCB、VRM、OAM板等外围供电市场。硅电容则专注于MLCC难以涵盖的高阶增量市场,定位为封装级与近芯片的电源完整性补充元件。未来的供电标准架构,预期将走向板端MLCC负责大后方稳压,封装级硅电容负责前线瞬态供电的模式。
硅电容可应用于AI算力芯片和光模块领域。(1)算力芯片:硅电容凭借超低阻抗和极快响应,紧贴芯片放置,能有效滤除噪声,确保芯片稳定运行,亦可搭配基板/ PCB板埋容方式靠近主芯片。根据三星电机官网,根据贴装位置不同,硅电容主要包括Top-side、Land-side和Embedded三种方式:①Top-side,在GPU/CPU/ASIC侧面或Interposer上表面贴装;②Land-side,置于Silicon Interposer底部、靠近芯片供电Bump;③Embedded,直接埋入Package Substrate内部。三种方式均主要服务于近芯片电源去耦与瞬态供电,区别在于与芯片供电端距离及封装集成程度,其中Land-side及Embedded方案可进一步缩短供电路径、降低寄生参数,提升电源完整性。(2)高速光模块:在800G/1.6T的高速光模块中,信号传输极易受损,硅电容的高频低插损特性,是保证数据传输不失真的关键。
硅电容随着AI量价提升,市场空间广阔。(1)量:结合村田光模块架构图,一个800G/1.6T光模块涉及的耦合及近端去耦电容数量约可达30-60颗,且随着Lane数、差分通道数和硅光集成度提升,用量亦有提升空间。(2)价:GPU/ASIC单芯片功耗持续由千瓦级向更高水平演进,供电电压却维持在1V左右甚至进一步下降,意味着核心供电电流及瞬态电流波动显著放大,对近芯片去耦电容的低ESR、低ESL与高频响应能力提出更高要求;同时,先进封装向2.5D/3D演进,芯片与封装基板空间更加紧凑,也进一步凸显硅电容高容值密度、超薄化以及可嵌入封装的优势,推动单颗容量、单芯片使用面积及整体价值量持续提升。
投资建议。硅电容以半导体工艺重构电容性能边界,为高阶运算打造的新世代供电元件。AI算力重构供电体系,硅电容迎来广阔增长空间。建议关注硅电容产业链。
风险提示
下游需求不及预期;新品研发不及预期;行业竞争加剧。
一、硅电容优势显著,AI需求空间广阔
二、投资建议
硅电容以半导体工艺重构电容性能边界,为高阶运算打造的新世代供电元件。AI算力重构供电体系,硅电容迎来广阔增长空间。建议关注硅电容产业链。
风险提示
(一)下游需求不及预期
电子行业受下游市场及终端消费市场需求波动的影响较大,如果未来终端消费市场需求尤其是增量需求下滑,电子厂商可能会减缓扩张速度,将会对行业企业的经营业绩造成较大不利影响。
(二)新品研发不及预期
半导体行业属于典型的技术密集型行业,具有较高的技术门槛。国内企业技术水平与国际知名企业相比仍然存在一定差距,如果不能在技术领域持续突破,并且充分关注客户多样化的个性需求,持续推出新产品,则将面临订单进度不及预期风险。
(三)行业竞争加剧
电子行业竞争激烈程度的加剧容易导致价格战等问题,对营收与利润造成不利影响,而行业内企业均在进步,因此行业内企业竞争加剧可能是风险点之一。
报告信息本摘要选自报告:《AI电源系列2:硅电容优势显著,AI需求空间广阔》2026-08-25报告作者:王亮 S0260519060001
耿正 S0260520090002
张大伟 S0260523050001
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