国产 EUV 光源系统样机亮相

半导体行业圈 振兴国产半导体产业！

10月14日消息，第二十六届中国国际工业博览会正在国家会展中心（上海）举行，朗道燧岩在会上首次公开展示一台极紫外（EUV）光源系统样机。
这是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机，被称为高端光刻机的“心脏”。现场工作人员介绍，该光源系统国产化率达到90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。
极紫外光源是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约高端芯片自主可控的关键环节。据介绍，该光源系统距离量产仍需3至5年时间。
朗道燧岩官网已列出多款EUV产品。其中低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO已处于产品化阶段，驱动激光功率为1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时；高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列已完成原理论证。
朗道科技主要从事半导体制造专用设备的研发、生产与相关技术服务。创始人王豪博士团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV光刻光源技术，致力于突破高端装备领域的卡脖子难题。
该公司成立于2024年，以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV光刻光源技术的研发与产业化。2025年10月获得张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，2026年1月完成天使+轮融资，2026年7月完成A轮融资，投资方包括沃衍资本、中芯聚源等。

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