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CNBC关注长鑫技术突破

半导体行业圈 振兴国产半导体产业!

10月14日消息,CNBC发文,关注了长鑫存储取得的技术突破。

CNBC称,长鑫存储是全球存储芯片制造商的主要竞争对手,目前的行业巨头包括美光、SK海力士和三星。

在上周末,长鑫存储宣布其新型架构研发取得进展。该架构能够在更小的空间内存储更多数据,从而提高存储密度。

周二,美光股价下跌3.62%。韩国SK海力士股价收跌10%,三星电子下跌7.4%。其他存储芯片相关股票也纷纷走低,包括闪迪、希捷和西部数据。

CNBC称,在今年夏季轰动一时的IPO之前,长鑫存储在中国市场以外鲜为人知。但在今年7月上市后,迅速引起全球关注。该公司在上海科创板上市首日股价飙升近466%,一度成为当时中国上市公司中市值最高的企业。

CNBC指出,长鑫存储上市后,市场最关注的问题之一是,该公司能否缩小与美光、三星和SK海力士之间的技术差距,尤其是在高带宽内存(HBM)领域,这是AI芯片系统的关键组成部分。

据国内媒体报道,长鑫存储总裁曹堪宇在10月10日的第四届集成芯片和芯粒大会上透露了一项新的DRAM技术进展。曹堪宇介绍了名为4F2的DRAM架构,并表示长鑫存储预计将在年底推出采用这项技术的新一代DDR5 RDIMM产品。

曹堪宇表示,该架构在DRAM存储阵列晶体管上进行了创新,VSG(Vertical Surrounded Gate)晶体管采用垂直包围沟道结构,以实现更强栅控,解决漏电与短沟道效应痛点,竖立的晶体管有助于面积微缩,提升存储密度。

CNBC称,新架构设计基于“4F2”技术,可实现更高的存储密度。SK海力士也在推进4F2设计,并于2025年公布了开发该技术的路线图。

分析师通常认为,长鑫存储在最前沿的存储技术研发方面落后于全球竞争对手。因此,任何有关其取得技术突破的消息,都可能显著影响投资者对其全球竞争对手市场优势的看法。

*免责声明:以上内容整理自网络,不代表半导体行业圈的观点和立场,仅供交流学习之用。如有任何疑问或异议,请留言与我们联系。

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