报告前瞻 | 西安电子科技大学宁静教授：氧化镓界面工程与异质集成增强热管理_IFWS&SSLCHINA 2026

2026年11月16-19日，第十二届国际第三代半导体论坛暨第二十三届中国国际半导体照明论坛（IFWS&SSLCHINA 2026）将在江苏苏州召开。宽禁带半导体器件与集成技术全国重点实验室副主任、西安电子科技大学教授宁静受邀将出席论坛，并带来《面向高效热管理的氧化镓异质集成与界面调控》的主题报告，分享相关研究成果。 

超宽禁带半导体氧化镓正成为全球第三代半导体领域的新赛道热点。氧化镓与高导热衬底的异质集成技术，成为破解热管理难题、释放氧化镓材料性能上限的关键突破口，也是近年全球科研机构攻关的核心方向。宁静教授长期深耕宽禁带半导体低维异质结与器件方向，主持多个国家自然科学基金、国家重点研发计划等各类科研项目，颇有成果，她所在的西安电子科技大学宽禁带半导体器件与集成技术全国重点实验室，是国内第三代半导体领域的核心科研平台之一，近年实验室在氧化镓异质集成、界面热阻调控等方向持续加码，已经形成从材料外延、器件制备到性能测试的完整研发链条，多项研究成果已经实现与头部企业的对接落地。本次报告分享切中当前氧化镓产业升级的核心需求，有望为国内超宽禁带半导体技术的自主创新提供重要支撑，详情敬请关注！ 

嘉宾简介

宁静，宽禁带半导体器件与集成技术全国重点实验室副主任，西安电子科技大学教授，国家级青年才俊。长期从事与新型宽带隙半导体材料和器件相关的关键科技问题的研究，在研究期刊上发表了70多篇第一/通讯作者论文，并授权了20项第一发明人专利。主持和参与国家自然科学基金、国家重点研发计划等20余项科研项目，获陕西省电子学会一等奖和陕西省高等学校科技一等奖。 

Prof. Jing Ning is a Professor at the Faculty of Integrated Circuits, Xidian University, and a recipient of a national-level Young Talent Program. She received part of her doctoral training at the University of Texas, USA, as a visiting Ph.D. student. Her research focuses on key scientific and technological challenges in wide-bandgap semiconductors.

She has published over 70 first-author or corresponding-author papers in prestigious journals, including Nature Communications, Advanced Materials, and IEEE Electron Device Letters, and holds 20 granted Chinese and international invention patents as the first inventor. She has led or participated in more than 20 research projects funded by the National Natural Science Foundation of China, the National Key Research and Development Program of China, and major national science and technology programs.

Prof. Ning serves as a Council Member of the Young Scientists Council of the Chinese Institute of Electronics, a Young Editorial Board Member of Science China Information Sciences and PhotoniX Synergy, and a Member of the National Expert Committee on Microelectronic and Optoelectronic Materials and Devices.

Her honors include the First Prize of the Natural Science Award of the Shaanxi Institute of Electronics, the First Prize of the Science and Technology Award of Shaanxi Higher Education Institutions, recognition as one of the Top Ten Outstanding Women in Science and Technology in 2025, and the Invention and Entrepreneurship Award (Individual Award) from the China Association of Inventions.

团队介绍

在西安电子科技大学岳浩院士的带领下，在宽带隙半导体器件与集成技术国家重点实验室的支持下，该团队建立了涵盖半导体外延、极化和界面工程、器件设计和热管理的综合研究框架。该团队在高质量异质结构生长、异质集成和高性能功率半导体器件方面拥有强大的专业知识和坚实的研究基础。

Led by Academician Yue Hao at Xidian University and supported by the State Key Laboratory of Wide-Bandgap Semiconductor Devices and Integrated Technology, the team has established a comprehensive research framework spanning semiconductor epitaxy, polarization and interface engineering, device design, and thermal management. The team has strong expertise and an established research foundation in high-quality heterostructure growth, heterogeneous integration, and high-performance power semiconductor devices.

报告前瞻

面向高效热管理的氧化镓异质集成与界面调控

Polarization and Interface Engineering in GaN and Ga?O? Heterostructures

宽禁带半导体是新一代高功率和高温电子器件的重要候选材料。然而，晶格失配、界面缺陷以及散热效率不足仍然是限制其性能与可靠性的主要挑战。本报告介绍宽禁带半导体界面工程与异质集成的最新研究进展，重点关注面向高效热管理的氧化镓基异质结构研究。首先，针对GaN异质结构开展极化辅助界面调控研究，以提升外延晶体质量与器件性能。通过利用界面极化诱导的静电相互作用，实现了高质量GaN异质外延生长，位错湮灭深度为171 nm，总位错密度约为3 × 10? cm?2。进一步通过界面优化，实现了2139 cm2/(V·s)的二维电子气迁移率和1.55 A/mm的最大输出电流密度，并在GaN基器件中实现了13.8 V的阈值电压调控窗口和约1011的开关电流比。在此基础上，将界面调控研究拓展至氧化镓异质集成体系，在多晶金刚石衬底上实现了高取向β-Ga?O?薄膜的直接外延生长，热边界电阻达到2.82 m2·K/GW。上述研究表明，界面工程在实现高质量异质集成和改善界面热输运方面具有重要作用，为发展具有高效热管理能力的高性能氧化镓基电子器件提供了新的技术途径。

Wide-bandgap semiconductors are promising candidates for next-generation high-power and high-temperature electronic devices. However, lattice mismatch, interfacial defects, and inefficient heat dissipation remain major challenges limiting their performance and reliability. This talk presents recent advances in interface engineering and heterogeneous integration, with a particular emphasis on the development of Ga?O?-based heterostructures for enhanced thermal management. First, polarization-assisted interface engineering was explored in GaN heterostructures to improve epitaxial quality and device performance. By exploiting polarization-induced electrostatic interactions at engineered interfaces, high-quality GaN heteroepitaxy was achieved, with a dislocation annihilation depth of 171 nm and a total dislocation density of approximately 3 × 10? cm?2. Further interface optimization enabled a two-dimensional electron gas mobility of 2,139 cm2/(V·s) and a maximum output current density of 1.55 A/mm. A threshold-voltage modulation window of 13.8 V and an on/off current ratio of approximately 1011 were also demonstrated in GaN-based devices. Building on these advances in interface engineering, highly oriented β-Ga?O? films were directly epitaxially grown on polycrystalline diamond substrates, achieving a thermal boundary resistance of 2.82 m2·K/GW. These results demonstrate the potential of interface engineering to enable high-quality heterogeneous integration and improved interfacial heat transport, providing a promising route toward high-performance Ga?O?-based electronic devices with enhanced thermal management.

关于论坛

（论坛资料图片）

作为国内第三代半导体领域历史最久、规格最高、覆盖最广的全球性行业年度盛会，活动累计邀约百余位海内外院士、多位诺贝尔奖得主亲临分享，汇聚全球3900余名顶尖专家、企业高管、投资人参会演讲，举办过480余场专题峰会，提交学术论文6020余篇，参会人员来自全球90余个国家和地区，合作伙伴1980多家，线下参会总规模突破47600人次。论坛长期深耕学术建设，拥有强大的程序委员会专家阵容，并与IEEE建立稳定官方合作关系，论坛征稿备受业界专家学者关注，学术权威性与全球认可度位居行业前列。在全球5G-A基站产能扩容、AI算力驱动光电融合加速的产业背景下，围绕宽禁带半导体材料物性、光电子研发、器件创新、核心设备攻关等全产业链核心方向展开深度研讨。

本届论坛依托苏州本地完善的半导体产业链配套与技术积淀，以AI时代产业新需求为核心锚点，设置1场主论坛、6大主题方向20余场技术分会及多场专题峰会等在内近30余场活动，覆盖碳化硅衬底与器件技术、氮化镓功率与射频技术、车规级器件可靠性验证、先进封装与设备国产化等全链条热点议题。串联起从基础材料、核心设备到终端应用的全产业链创新脉络，是全球半导体人每年不可缺席的技术交流与产业对接平台。

大会同期将举办2026先进半导体技术应用创新展、顶刊交流会、企业考察等配套活动，目前【重要提醒】2026年度中国第三代半导体技术十大进展征集火热申报中，所有论文投稿收录至大会论文集，首批嘉宾名单出炉！IFWS&SSLCHINA 2026将于11月苏州启幕，优秀成果将直接推荐至SCI期刊发布。

届时，来自全球高校院所、产业链头部企业的顶尖专家与行业代表将齐聚苏州，共同围绕第三代半导体技术突破、规模化落地与跨场景融合等核心议题展开交流。 首批嘉宾名单及会议早鸟优惠信息详情如下：

首批嘉宾名单

向上滑动阅览全文（不分先后）

张   荣 -- 中国科学院院士、厦门大学党委书记、教授

刘纪美--美国国家工程院院士、香港工程科学院院士、香港科技大学荣休教授

沈   波 -- 北京大学理学部副主任、宽禁带半导体研究中心主任、博雅特聘教授

徐   科 -- 江苏第三代半导体研究院院长、国家第三代半导体技术创新中心（苏州）副主任、中国科学院苏州纳米所研究员

张   波 -- 电子科技大学集成电路研究中心主任、教授

邱宇峰 -- 厦门大学讲座教授、全球能源互联网研究院原院长

徐现刚 -- 山东大学新一代半导体材料研究院院长、教授

盛   况 -- 湖州师范大学校长、浙江大学求是特聘教授

陈   敬 -- 香港科技大学教授

吴伟东 -- 加拿大多伦多大学教授、多伦多纳米制造中心主任

张进成 -- 西安电子科技大学副校长、教授

黎大兵 -- 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所副所长、研究员

张鲁川 -- 国家第三代半导体技术创新中心主任

丁琪超 -- 九峰山实验室主任

万玉喜 -- 深圳平湖实验室主任

黄伯宁 -- 华为数字能源技术有限公司首席技术官

张   韵 -- 中国科学院半导体研究所副所长

柏   松 -- 中国电子科技集团公司第五十五研究所研究员、宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室主任

王新强 -- 北京大学东莞光电研究院院长、博雅特聘教授

董博宇 -- 北方华创科技集团股份有限公司总裁

郭世平 -- 中微半导体设备 (上海) 有限公司副总裁

Victor Veliadis-- PowerAmerica 执行董事兼首席技术官、北卡罗莱纳州立大学教授、IEEE 宽禁带半导体技术路线图委员会（ITRW）主席，美国国家发明家科学院院士

三宅秀人-- 日本三重大学教授

Peter Friedrichs-- 英飞凌Fellow&碳化硅事业部副总裁

Yuri Makarov -- Nitride Crystals Inc. 创始人兼总裁

Motoaki Iwaya -- 日本名城大学教授

Alberto CASTELLAZZI -- 日本京都先端科学大学工学部教授、固态功率处理（SP2）实验室负责人

滨田公守 -- 日本华为股份有限公司高级首席专家

陈传彤 -- 日本大阪大学产业科学研究所教授

Ewa Grzanka -- 波兰科学院高压物理研究所（UNIPRESS）半导体表征实验室研究员

Hiroshi Fujioka -- 东京大学教授

Fausto Stella Politecnico di Torino--意大利都灵理工大学教授

Kim Munho -- 新加坡南洋理工大学电气与电子工程学院终身副教授、纳米工程器件实验室（NEDL）负责人

Markus Pristovsek-- 日本名古屋大学未来材料与系统研究所附属未来电子集成研究中心特任教授

郭其新 -- 日本国立佐贺大学同步辐射光应用研究中心主任、电气电子工程系教授

陈堂胜 -- 中国电子科技集团公司第五十五研究所首席科学家

冯志红 -- 中国电子科技集团有限公司第十三研究所首席科学家，专用集成电路国家级重点实验室副主任

康俊勇 -- 厦门大学教授

陶绪堂 -- 山东大学讲席教授

张   龙 -- 中科院上海光学精密机械研究所所长

单崇新 -- 郑州大学副校长、教授

迟   楠 -- 复旦大学副校长、教授

陈敦军 -- 南京大学电子科学与工程学院副院长、教授

龙世兵 -- 中国科学技术大学微电子学院执行院长、教授

惠   峰 -- 云南锗业公司首席科学家

叶建东 -- 南京大学电子科学与工程学院副院长、教授

罗小蓉 -- 成都信息工程大学副校长，电子科技大学教授

齐红基 -- 中国科学院上海光学精密机械研究所研究员、杭州光学精密机械研究所所长、杭州富加镓业科技有限公司董事长兼总经理

刘   斌 -- 南京大学电子科学与工程学院院长、教授

汪   莱 -- 清华大学电子工程系长聘教授

黄   凯 -- 厦门大学物理科学与技术学院副院长、教授

王军喜 -- 中国科学院半导体研究所研究员、宽禁带半导体研发中心主任

张乃千 -- 苏州能讯高能半导体有限公司董事长

欧   欣 -- 中科院上海微系统所重点实验室主任、中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员

万   青 -- 甬江实验室功能材料与器件异构集成研究中心主任

冯   淦-- 瀚天天成电子科技（厦门）有限公司总经理

张玉明-- 西安电子科技大学微电子学院原院长、教授

皮孝东-- 浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院院长、教授

陈秀芳-- 山东大学教授

梅云辉-- 天津工业大学电气工程学院常务副院长、教授

王来利-- 西安交通大学教授

赵丽霞-- 天津工业大学科学技术研究院院长、教授

刘朝辉-- 国家新能源汽车技术创新中心总师、动力系统业务单元负责人

吴毅锋-- 珠海镓未来科技有限公司总裁

吴新科-- 浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院副院长、教授

潘   琪-- 台达电力电子研发中心负责人

潘尧波 -- 中天晶科（宁波）半导体材料有限公司董事兼总经理

修向前 -- 南京大学电子科学与工程学院教授

张清纯 -- 复旦大学上海碳化硅功率器件工程技术研究中心主任

梁剑波 -- 国家第三代半导体技术创新中心（苏州）首席科学家、大阪公立大学教授

袁  俊 -- 九峰山实验室功率器件负责人、碳化硅首席专家

周  琦 -- 电子科技大学教授

张宇昊 -- 香港大学先进半导体和集成电路研究中心副主任、教授

刘   扬 -- 中山大学教授

王德君 -- 大连理工大学教授

周春华 -- 深圳平湖实验室首席科学家

黄  森 -- 中国科学院微电子研究所研究员

杨  树 -- 中国科学技术大学教授

刘  雯 -- 西交利物浦大学教授

房玉龙 -- 中国电科产业基础研究院基础研究部主任

敖金平 -- 日本德岛大学教授，江南大学教授

刘建利 -- 中兴通讯股份有限公司无线射频总工

裴   轶 -- 苏州能讯高能半导体有限公司技术副总裁

李忠辉 -- 中国电科集团的首席专家、中国电子科技集团公司第五十五研究所研究员

李国强 -- 华南理工大学教授

孙成亮 -- 武汉敏声董事长

陈化冰 -- 南京大学、南大光电前副总裁

左成杰 -- 中国科学技术大学教授

俞  捷 -- 香港科技大学教授

张  辉 -- 浙江大学教授、杭州镓仁半导体董事长

周   弘 -- 西安电子科技大学教授

徐光伟 -- 中国科学技术大学教授

王宏兴 -- 西安交通大学教授

朱嘉琦 -- 哈尔滨工业大学教授

张金风 -- 西安电子科技大学教授

金   鹏 -- 中国科学院半导体研究所研究员

李成明 -- 北京科技大学教授

于彤军 -- 北京大学教授

吴   亮 -- 奥趋光电技术（杭州）有限公司首席执行官

刘玉怀 -- 郑州大学教授

程红娟 -- 中国电子科技集团第四十六研究所研究员

徐   军 -- 同济大学教授

邵   帅 -- 浙江大学副教授

王   蓉 -- 浙江大学材料科学与工程学院研究员

张   峰 -- 厦门大学物理科学与技术学院教授

孙   钱 -- 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员

杨学林 -- 北京大学教授

张源涛 -- 吉林大学教授

贺致远 -- 广东工业大学集成电路学院教授

樊嘉杰 -- 复旦大学青年研究员

王   嘉 -- 日本名古屋大学高等研究院、材料与可持续性系统研究院特聘助理教授

张纪才 -- 北京化工大学教授

张兴旺 -- 中国科学院半导体研究所研究员

孟军华 -- 北京工业大学物理与光电工程学院教授

黄火林 -- 大连理工大学教授 / 主任

严   群 -- 福州大学教授

曾一平 -- 中国科学院半导体研究所研究员

孙小卫 -- 南方科技大学电子与电气工程系讲席教授

刘国旭 -- 北京易美新创科技有限公司联合创始人兼 CTO

云   峰 -- 西安交通大学教授

伊晓燕 -- 中国科学院半导体研究所研究员

汪炼成 -- 中南大学教授

张建立 -- 南昌大学研究员

闫春辉 -- 纳微朗光电科技（河北）有限公司董事长

邱  云 -- 京东方科技集团股份有限公司技术企划部副总监

刘召军 -- 南方科技大学副教授

陆   海 -- 南京大学教授

陈长清 -- 华中科技大学教授

许福军 -- 北京大学教授

闫建昌 -- 山西中科潞安紫外光电科技有限公司总经理，北京航空航天大学教授

孙晓娟 -- 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所研究员

李金钗 -- 厦门大学教授

赵德刚 -- 中国科学院半导体所研究员

张保平 -- 南方科技大学教授

胡晓东 -- 北京大学教授

王建峰 -- 苏州纳维科技有限公司总经理

莫庆伟 -- 老鹰半导体副总裁、首席科学家

曹   峻 -- 上海瞻芯电子科技股份有限公司副总经理

刘建平 -- 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员

陈雄斌 -- 中国科学院半导体研究所研究员

田朋飞 --复旦大学智能机器人与先进制造创新学院教授

林维明 -- 福州大学教授

沈   超 -- 复旦大学研究员

母凤文 -- 北京青禾晶元半导体科技有限责任公司董事长

吴超瑜 -- 泉州三安砷化镓板块总经理

张   永 -- 全磊光电股份有限公司董事长

张紫辉 -- 广东工业大学教授

成乔升 -- 中金公司研究部半导体行业研究员、副总经理

陈文成 -- 水晶光电董事长特别助理、业务发展中心常务副总经理及创新业务市场部总经理

王江波 -- 京东方华灿光电股份有限公司副总裁、首席技术官

相   奇 -- 广东芯粤能半导体有限公司副总裁

孙   涛 -- 北京集创北方科技股份有限公司副总裁、副总经理

方子文 -- AIXTRON 中国总经理

潘明清 --武汉星曦光科技有限公司系统总监

张国良 -- 河北普兴电子科技股份有限公司市场总监

陈奕林 -- 厦门光莆电子股份有限公司董事长助理、数智能源事业部总经理

林燕丹 -- 复旦大学教授

瞿   佳 -- 温州医科大学国家眼耳鼻喉疾病临床医学研究中心主任、教授

杨其长 -- 中国农业科学院都市农业研究所智能装备创新团队首席科学家、研究员

郝洛西 -- 同济大学建筑与城市规划学院教授、国际照明学会（CIE）副主席

熊大曦 -- 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所研究员

牟同升 -- 浙江大学教授

魏敏晨 -- 香港理工大学颜色、影像与元宇宙研究中心主任、教授

蔡建奇 -- 中国标准化研究院视觉健康与安全防护实验室主任、研究员

刘   强 -- 武汉大学颜色科学与图像传播研究所所长、副教授

王彦青 -- 复旦大学基础医学院教授

崔锦江 -- 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所康复与治疗研究室主任、研究员

张凤民 -- 哈尔滨医科大学基础医学院教授、国家地方联合工程研究中心主任

蔡本志 -- 哈尔滨医科大学教授

董建飞 -- 苏州大学教授

陈德福 -- 北京理工大学医工融合研究院特聘副研究员

唐国庆 -- 木林森股份有限公司执行总经理

刘   鹰 -- 浙江大学生物系统工程与食品科学学院院长、教授

泮进明 -- 浙江大学教授

贺冬仙 -- 中国农业大学教授

陈   凯 -- 华普永明光电股份有限公司董事长、总裁

华桂潮 -- 四维生态董事长

徐   虹 -- 厦门通秮科技有限公司总经理

刘厚诚 -- 华南农业大学教授

李绍华 -- 中国科学院植物研究所研究员

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更多嘉宾及报告人持续确认中！

会议信息

会议时间：2026年11月16-19日

会议地点：中国 · 江苏 · 苏州

主办单位

第三代半导体产业技术创新战略联盟（CASA）

中关村半导体照明工程研发及产业联盟（CSA）

国家第三代半导体技术创新中心（苏州）

日程总览

*上述安排仅供参考，最终以实际为准。

费用及权益

*第三代半导体产业技术创新战略联盟（CASA）或中关村半导体照明工程研发及产业联盟（CSA）成员单位在此基础上再享受10%优惠；

*学生参会需提交相关证件；

*会议现场报到注册不享受各种优惠政策；

*若由于某些原因，您缴费后无法参会，可办理退款事宜，组委会将扣除已缴费金额的5%作为退款手续费；

*IFWS相关会议（暂定）：开幕大会，POSTER交流展示，第三代半导体标准与检测研讨会，AI算力与数字能源供配电技术合作峰会，第六届车用半导体创新合作峰会，AI算力高速光互联技术与产业应用峰会，Micro LED前沿应用产业峰会，碳化硅衬底、外延生长及其相关设备技术，碳化硅功率电子器件及其封装技术，氮化镓衬底、外延生长及其相关设备技术，化合物半导体射频器件，氮化镓功率电子器件技术，超宽禁带半导体技术，异质异构集成技术及应用峰会，氮化物半导体固态紫外技术及应用；

*SSL相关会议（暂定）：开幕大会，POSTER交流展示，第三代半导体标准与检测研讨会，AI算力与数字能源供配电技术合作峰会，第六届车用半导体创新合作峰会，AI算力高速光互联技术与产业应用峰会，Micro LED前沿应用产业峰会，光品质与光健康，光医疗技术创新应用论坛，异质异构集成技术及应用峰会，氮化物半导体固态紫外技术及应用。

注册报名

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征文方向

征文流程

1.作者根据征文时间安排提交摘要或全文至投稿平台：http://indico.ifws.org.cn:8686/event/2/（请复制网址浏览器打开&登录&提交）。

特别提醒：投稿者可直接提交论文全文。论文全文录用通知时间为2026年10月22日，请注意查收录用邮件。有疑问请直接联系：尹老师：18811765341。（*请投稿者留意投稿页面提示信息。）

2. 录用方式分为：口头报告、POSTER与入刊会议论文集。

3. 所需准备材料：

·口头报告：作者需准备论文与演示文件（PPT/PDF）；

·POSTER：作者需准备论文与POSTER文件（POSTER需体现投稿编号，作者携带制作好的POSTER至会议举办地点并在POSTER展示区域自行张贴）；

· 入刊会议论文集：根据论文模板准备论文全文。

注：

·官方网站：http://www.ifws.org.cn/paper  提供更多详尽信息，请作者务必按照相应规定和时间要求准备材料，以便顺利通过论文审核。

·录取的论文会被遴选在IEEE Xplore 电子图书馆发表，IEEE是EI检索系统的合作数据库。

附件：

IFWS&SSLCHINA2026_摘要模板.docx

IFWS&SSLCHINA2026_全文模板.doc

IFWS&SSLCHINA2026_POSTER制作要求.pdf

IFWS&SSLCHINA2026_POSTER_sample.pdf

征文要求

1.基本要求

?尚未在国内外公开刊物或其他学术会议上发表过的论文；

?主题突出，内容层次分明，数据准确，论述严谨，结论明确，采用法定计量单位;

?按照组委会提供的模板排版全文，论文全文格式要求为WORD，内容不超过4页;

?论文全文需符合APA撰写规范并符合模板排版格式。

2.语言要求

?作者须提交文体规范的英文论文；

?演讲语言可以使用中文或英文，但必须用英文演示（PPT或PDF文档）。

注：含有商业性宣传内容的论文，不予安排在论坛演讲。

投稿咨询

邮箱：papersubmission@china-led.net 

尹老师：18811765341（微信号：yly_03_16）

*论文全文录用通知时间为2026年10月22日，请注意查收录用邮件。

参展/赞助/演讲/商务合作

张老师：13681329411，vivi@casmita.com

贾老师：18310277858，jiaxl@casmita.com

往届POSTER交流现场

往届最佳POSTER颁奖现场

*POSTER展示交流&投票评选出最佳POSTER奖，
颁发荣誉证书&奖品。

往届论坛论文集示例

*大会征文投稿会统一进收录论文集，现场领取。

近十年IEEE Xplore收录大会论文

*大会论文会被遴选在IEEE Xplore发表。

近十年IEEE Xplore收录大会论文地址：

IFWS & SSLCHINA 2025：

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/11314870/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2024：

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/10835211/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2023：https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/10399638/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2022:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/10070854/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2021:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9675142/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2020:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9308121/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2019:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9005308/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2018:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/8574358/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2017:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/8233062/proceeding

IFWS & SSLCHINA 2016:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/7792513/proceeding

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往届精彩花絮回顾

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