俄罗斯自研光刻机传出新进展

近日媒体报道，俄罗斯将泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）自主研发的一套新型光刻系统，纳入到了国家工业信息系统（GISP）当中。

这套新型光刻系统，承担着把设计图案转移到半导体晶圆上的重要任务，如今已被正式列入国家工业设备名录。名录特别介绍了它具备350纳米分辨率的对准和投影曝光功能。

该设备型号为RAVC.442174.002TU，是俄罗斯自主研发的光刻解决方案之一，为生产超大规模集成电路（VLSI）量身打造。

泽列诺格勒纳米技术中心是一家集研发与制造功能于一体的机构，在俄罗斯微电子生态中占据着关键地位。它坐落于有俄罗斯“硅谷”之称的泽列诺格勒，一直致力于推动半导体技术、纳米技术器件以及先进制造设备的研发工作。

从技术参数来看，该光刻设备能够加工直径达200毫米的半导体晶圆。200毫米的晶圆尺寸在行业内应用广泛，尤其是在生产功率器件、微控制器、传感器以及其他专用电路的工厂里十分常见。

在光刻设备中，分辨率是一个极为关键的指标，它直接决定了晶圆上能够刻画的最小特征尺寸。这套系统的分辨率达到350纳米，意味着它可以稳定地生成特征尺寸约为0.35微米的电路图案。

该设备的工作波长约为365纳米，通常用于i线紫外光刻。虽然目前最先进的处理器是由采用更短波长（如深紫外或极紫外）的现代半导体晶圆厂生产的，但对于许多成熟的技术节点而言，365纳米波长范围依然适用。

对准精度同样不容忽视，它确保了半导体器件的每一层都能与之前已完成的图案化精确对齐。ZNTC的这套设备对准精度约为90纳米。这一精度，对于防止多层芯片制造过程中出现缺陷，以及维持可靠的电气连接起着至关重要的作用。

另外，该设备的工作曝光区域尺寸约为22毫米×22毫米，它能够投射单个芯片图案，然后通过步进重复曝光工艺，在晶圆上重复这些图案。

#光刻机 #半导体设备 #晶圆

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