5月15-17日,由江南大学、极智半导体产业网和第三代半导体产业联合主办的“2026先进半导体封装技术与应用论坛(CASPF 2026)”将在江阴启幕。江苏雷博微电子设备有限公司(品牌:LEBOSEMI?)将携最新产品亮相本次论坛,并诚挚邀请行业专家学者、业界同仁莅临现场,进行深入的交流与探讨。
同时,江苏雷博微电子设备有限公司高级产品经理王良栋将出席论坛,并在“主题论坛二:先进封装工艺、产品与应用”上发表《先进封装的精度之链:甲酸回流等工艺设备应用》的主题演讲,敬请关注!
企业简介
江苏雷博微电子设备有限公司(品牌:LEBOSEMI?)致力于成为一家技术创新、服务用心的专业半导体设备供应商,公司起源于2011年。目前公司主体制造基地在江苏省江阴市,并在江苏省无锡市设有研发中心和黄光实验室。公司生产和销售不同领域的工业半导体设备,从事高端半导体设备开发并提供专业的半导体设备服务。主要产品有匀胶显影机、去胶剥离机、清洗刻蚀机、喷胶机和甲酸回流机等全自动和半自动设备。公司产品被广泛应用于化合物半导体、LED、MEMS及先进封装等芯片制造领域。公司现有团队200余人,拥有一大批高级管理、设计、工艺和技术人才,配备有专业的检测仪器和工艺实验设备,让公司拥有强大的研发、生产和售后服务能力,能够满足不同客户的定制化需求。
主题演讲
点击查看详细日程:日程&攻略 | CASPF2026先进半导体封装论坛产品介绍
??产品名称:BS8-2C2D
产品特点:
1、适用于8英寸晶圆的前道工艺。
2、可兼容4、6英寸晶圆、翘曲晶圆或其他非标准晶圆。
3、可完成90nm以上工艺制程。
4、工艺模块最大配置:4C4D。
5、可与Canon、Nikon等多款光刻机联机。
6、DEV模块可配置H、E2、LD等多种喷嘴。
产品参数:
1、主轴旋转速度:-6000rpm~6000rpm。
2、主轴旋转精度:±1rpm(50rpm~6000rpm)。
3、主轴旋转最大加速度:100~50000rpm/s。
4、光刻胶管路:4路(粘度<100cp)。
5、光刻胶、显影液温控:20~23℃ ±0.2℃
6、PHP温度范围:50—250℃
温度均匀性:50.0—120.0℃ R≤0.2℃
120.1—150.0℃ R≤0.3℃
150.1—200.0℃ R≤0.5℃
200.1—250.0℃ R≤0.65℃
7、LHP温度范围:50—200℃
温度均匀性:50.0—120.0℃ R≤0.6℃
120.1—150.0℃ R≤1.0℃
150.1—200.0℃ R≤1.4℃
??产品名称:SS12-RF
产品特点:
1、采用甲酸回流工艺,无需旋涂、清洗助焊剂。
2、工艺简单,成本低,可有效提高产能。
3、可适用6/8/12寸标准及翘曲晶圆。
4、产品配置多个加热腔体,可实现晶圆阶梯式的升降温要求。
5、晶圆在多腔体连续传递,效率高,产能可达50WPH。
6、结构紧凑,占地面积小,维护保养简单,维护保养间隔大于2周。
产品参数:
1、适用晶圆规格:6、8、12寸晶圆,翘曲度≤5mm。
2、工艺温度:常温~400°C。
3、工艺腔体数量:6套(Loadlock1套,HP 4套,CP 1套)。
4、工艺温度均匀性:±2℃(320℃以内)。
5、上盘体加热温度:常温~250°C。
6、排风管加热温度:常温~250°C。
7、冷板温度:15~25°C。
8、腔体内氧含量:≤20ppm。
9、配置去静电装置、Aligner、高效过滤器等。
??产品名称:SS12-8CL
产品特点:
1、设备空间紧凑,且不需要供液柜。
2、配置8个工艺腔体,优化工艺程序,搭配高速机械手,实现大于230UPH的高产能。
3、通过adaptor可兼容8寸和12寸晶圆,通过翻转对中结构实现双面清洗。
4、通过先进控压技术,可实现0.6~18Mpa无极调控,满足多种清洗需求。
5、可根据客户工艺需求选择高压,二流体,兆声和毛刷等配置,满足不同大小颗粒清洗的需求。
产品参数:
颗粒去除能力测试:
1、作业完圆片表面尺寸≥0.2um颗粒少于20颗;
2、清洗后正面无划伤损伤;
3、湿运行测试:环境落尘≥0.3um(1000颗以上),去除率≥95%;
4、纯水比电阻值:0.2± 0.1MΩ.cm (DIW Temp: 保持20~30℃);
1、ESD指标:
(1)消散时间<5S;
(2)平衡电压-35V<V<+35V;
(3)所有与圆片接触的Chuck、手臂、对中材料、上料区限位块、设备观察门板摩擦电压<50V。
论坛详情
日程&攻略 | CASPF2026先进半导体封装技术与应用论坛
CASPF2026
江大先进半导体封装技术与应用论坛
邀您5月共赴江南之约!
—— 完 ——
【赞助、展示及商务合作】
张女士:13681329411 贾先生:18310277858
股票
板块
用户
资讯
评论 (0)