刚刚！国产光刻机新突破！

半导体行业圈 振兴国产半导体产业！

6月8日消息，据报道，璞璘科技近日向深圳力策科技正式交付型号为PL-AS的半导体级真空气压式纳米压印光刻机。该设备是国内首款光芯片专用纳米压印光刻设备，实现了国产光刻领域新突破。

此次交付的设备型号为PL-AS真空气压式纳米压印光刻机，全程绕开深紫外光刻路线，实现8英寸光芯片晶圆规模化量产。

该半导体级设备线宽分辨率小于10nm，晶圆整面压印压力均匀性误差低于 0.5%，同时支持无残余层压印工艺。

设备采用面接触气压工作模式，晶圆各区域受力均匀，可将残余层厚度偏差控制在2nm以内，适配光芯片生产要求。

对比辊压工艺，该方案规避线接触带来的形变问题；相较步进式设备，全域压印模式大幅提升量产效率。它可实现跨尺度微纳结构一次成型，省去多道复杂光刻工序，在简化流程的同时保障产品生产良率。

本次合作聚焦激光雷达芯片量产，助力力策科技旗下光学相控阵芯片，面向车载、智能终端市场规模化落地。技术层面，通过8英寸规模化量产验证，证实了国产纳米压印可在光芯片制造中稳定替代DUV工艺。

整套方案搭配定制双层压印胶材料体系，芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。目前这套纳米压印方案，已在光通讯化合物芯片、硅光环形导光结构芯片领域完成量产验证。

*免责声明：以上内容整理自网络，不代表半导体行业圈的观点和立场，仅供交流学习之用。如有任何疑问或异议，请留言与我们联系。

- END -

爆料｜投稿｜合作｜社群

文章内容整理自网络，如有侵权请联系沟通

投稿或商务合作请联系xd211ic

有偿新闻爆料请添加微信
xd211ic