CSEAC 2026
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为期三天的第十四届半导体设备材料及核心部件展(CSEAC 2026)于今日圆满落幕,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”,证券代码:688012)精彩亮相展会并举办新品发布会,全面展示了中微公司在集成电路微观加工高端设备领域的最新成果与创新解决方案。
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中微公司展台热度高涨,六款新品赋能平台化
CSEAC 2026展会期间,中微公司展台备受瞩目,莅临参观与交流的行业同仁络绎不绝,业界对中微公司产品的关注与期待可见一斑。
展会第二天,中微公司举办了新品发布会,现场座无虚席。来自全国各地的行业专家、合作伙伴及媒体代表齐聚一堂,共同见证了中微公司六大新品的重磅亮相。此次发布的六款设备覆盖极高深宽比刻蚀、等离子体增强化学气相沉积、原子层沉积、金属薄膜沉积及碳化硅外延等关键赛道,技术突破令人瞩目。新品推出进一步完善了中微公司刻蚀设备、薄膜沉积设备及泛半导体生产的产品矩阵。
中微公司本次发布的新品
中微公司新品发布会精彩回顾
中微公司已开发出54种高端半导体设备,包括26种等离子体刻蚀机和24种各类薄膜设备、化学机械抛光设备和部分量检测设备,累计超过8800个反应台在国内外220余条生产线上实现量产。目前,中微公司的设备产品已经覆盖了超过30%前道集成电路设备产品。未来五年,公司将通过自主开发与外延并购,覆盖60%以上的集成电路高端设备市场和70%以上的先进封装设备市场,成为全球领先的高端设备平台型公司。
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荣誉时刻:中微公司荣膺技术创新大奖
展会期间,中微公司凭借在半导体设备领域的卓越贡献,荣膺“技术创新大奖”。本次奖项由华虹宏力董事长兼总裁白鹏颁发(下图右),中微公司董事长兼总经理尹志尧博士(下图左)登台领奖。
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行业同仁共聚高峰论坛,多位高管分享产业洞见
展会期间,中微公司除发布六款新品外,多位专家代表亦在同期的多场行业论坛中积极发声。他们立足深厚行业积淀,围绕技术趋势、产业投资、人才培养等热点话题,分享行业经验与观点,内容充实,呈现出一场聚焦半导体产业的“思想盛宴”。
半导体制造与设备及核心部件董事长论坛
中微公司资深副总裁、全球业务管理部、等离子刻蚀产品总部、外延产品部及介质薄膜产品部总经理丛海(中)参与圆桌对话并发表产业见解
半导体产业专题论坛
01
中微公司集团副总裁、CCP刻蚀产品事业部总经理刘志强参与了“刻蚀技术、制程及设备专题论坛”圆桌对话,围绕AI赋能设备迭代、工艺开发等核心议题展开了深度研讨
02
中微公司刻蚀市场开拓及技术营销副总监王红超参与了“刻蚀技术、制程及设备专题论坛”,发表题为《中微公司:精进刻蚀技艺,决胜三维工艺》的主题演讲
03
中微公司金属沉积产品部总经理许灿参与了“薄膜沉积技术、制程及设备专题论坛”,发表《先进逻辑与存储器件半导体装备应用与挑战》主题演讲
04
中微公司先进封装商业拓展资深总监邰利参与了“AI 时代先进封装技术协同研发论坛”,发表《中微卓越的产品解决方案,助力先进封装良率新高度》主题演讲
人力行:企业人才需求发布会
中微公司集团副总裁、人力资源负责人杨俊出席“人力行:企业人才需求发布会”,分享了公司在团队建设与激发人才活力方面的宝贵经验
此次展会,中微公司不仅展示了自身成果,更借此机会深入聆听行业声音,拓展合作伙伴关系,共同探寻发展新机。
展望未来,中微公司将继续秉持“攀登勇者,志在巅峰”的精神,践行“五个十大”的企业文化,深入推进三维立体生长战略,持续提升综合竞争力,在技术进步、业务发展、业绩增长、规范治理等方面不断提高水平,实现高速、稳定、健康和安全的高质量发展,在规模和竞争力上成为国际第一梯队的半导体设备公司。
关于中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司(证券简称:中微公司,证券代码:688012)致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类、包括二十几种细分刻蚀设备已可以覆盖大多数刻蚀的应用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国内和国际一线客户,从65纳米到3纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用,并已实现CMP湿法设备多种应用的覆盖。中微公司最近十年着重开发多种导体和半导体化学薄膜设备,如MOCVD、LPCVD、ALD、PVD、PECVD和EPI设备,并取得了可喜的进步。中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备早已在客户生产线上投入量产,并在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。此外,中微公司已全面布局光学和电子束量检测设备,并开发多种泛半导体微观加工设备,包括大平板显示设备等。这些设备都是制造各种微观器件的关键设备,可加工和检测微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础,它们正在改变人类的生产方式和生活方式。在近五年的全球半导体设备客户满意度调查中,中微公司总评分四次获得第三,薄膜设备四次被评为第一。
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