国际先进光刻技术研讨会|特邀嘉宾及主旨报告介绍（4）

国际先进光刻技术研讨会|特邀嘉宾及主旨报告介绍（4）

（IWAPS 2026）

特邀嘉宾

伍强教授       

复旦大学

伍强，复旦大学教授。他在1999年毕业于耶鲁大学，获博士学位。此后，他曾任职于多家公司，担任光刻工程师及经理等职务。他的研究方向包括光刻工艺、设备/材料开发、计算光刻等。他已发表论文90余篇，获授权专利112项。

主旨报告

为了在不使用EUV及相关技术的情况下进一步推动现有集成电路制造基础设施的性能提升，伍强教授团队于约两年前提出了设计基础设施协同优化（Design Infrastructure Co-Optimization, DICO），其聚焦于工艺与材料的全局优化。为实现此类优化，必须采用物理模型，或至少是具备足够物理内涵的模型。在此次报告中，伍强教授将详细阐述采用完整物理建模的优势，将展示掩模三维效应（Mask 3D）、光刻胶及特定工艺效应的仿真示例，并基于实际掩模图形和技术节点，展示若干基于完整物理模型的光源-掩模协同优化（Source-Mask co-Optimization, SMO）实例。

IWAPS 2026

国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning  Solutions）将于2026年9月10~11日在深圳国际会展中心举办，本次会议邀请到了复旦大学的伍强教授进行报告。

IWAPS由中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、中国国际光电博览会、光刻机制造技术创新中心、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴！

IWAPS依托中国创新沃土，搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下，在全球企业、高校、协会等的共同推动下，IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺、检测和测量、掩模和材料、计算光刻、设计与工艺协同优化及新型光刻技术等主题的国际先进光刻交流平台。

IWAPS已经与SPIE（国际光学工程学会）达成合作，本届IWAPS接收的论文将被送检SPIE Digital Library及EI。

IWAPS 2026计划于

2026年9月10-11日在深圳国际

会展中心举行

请于9月9日报到！

欢迎各位学术和产业届的朋友报名参会，莅临指导！

报名链接：

http://p0u.cn/f/r2asez

报名二维码：

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“光刻人的世界”公众号近期将陆续对本次会议受邀嘉宾和他们带来的报告进行介绍，敬请大家关注。

期待金秋九月与大家相聚

光刻人的世界

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